硅/半導(dǎo)體
甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫是一種高效環(huán)保的鍍錫工藝。該工藝技術(shù)成熟，已經(jīng)廣泛應(yīng)用于美國(guó)等發(fā)達(dá)國(guó)家。中國(guó)近些年來(lái)在甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫領(lǐng)域進(jìn)行了大量研究，相繼建立了甲基磺酸(MSA)高速電鍍錫生產(chǎn)線，而離子交換膜是電鍍液質(zhì)量的關(guān)鍵性因素。
離子交換膜電解法溶錫作為不溶性陽(yáng)極電鍍錫線上新的錫補(bǔ)充技術(shù)，其高的錫利用率已得到業(yè)內(nèi)人士的廣泛關(guān)注。今后離子交換膜電解法溶錫的整套裝置將成為基礎(chǔ)研究和工業(yè)應(yīng)用的重點(diǎn)，有望大大提高不溶性陽(yáng)極電鍍錫線的錫利用率，降低生產(chǎn)成本。
CCE是藍(lán)然專(zhuān)門(mén)為電鍍環(huán)境開(kāi)發(fā)。其選擇性的透過(guò)Cu、Sn等離子，阻止其他添加劑組分通過(guò)，從而可以獲得良好的電鍍效果，通常也用于電鍍液的凈化。針對(duì)含有雙氧水等環(huán)境，則需采用全氟磺酸膜NS-260進(jìn)行。
一些應(yīng)用場(chǎng)景下，陽(yáng)極需要溶解到溶液中制備電鍍液，如錫電解造液。此時(shí)，將陰離子交換膜覆蓋陰極表面，即可保證溶解下的金屬離子不在陰極析出。
藍(lán)然可針對(duì)電鍍行業(yè)的要求，特征性的提供的電鍍級(jí)的離子交換膜，并可根據(jù)客戶的工藝進(jìn)行定制。
保證各種酸堿環(huán)境下仍能保持良好的穩(wěn)定性。
極低的離子泄漏率，保證電鍍液的純凈。
*常規(guī)產(chǎn)品可參照離子交換膜CEP/AEP
保密。
